2022年9月11-16日にスイス・ダボスで開催された19th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM2022)@Davos, Switzerlandにて細井が以下の研究発表を行いました。
[Tu-2-A-3] “CO2 post-nitridation annealing for improving immunity to charge trapping in SiC MOS devices”
T. Hosoi, M. Ohsako, K. Moges, K. Ito, T. Kimoto, M. Sometani, M. Okamoto, A. Yoshigoe, T. Shimura, H. Watanabe
