広島大学・ナノデバイス研究センターで開催された電子情報通信学会シリコン材料・デバイス（SDM）研究専門委員会 6月研究会（2023年6月26日）にてM1の奥平さんが成果発表を行いました．東京工業大学の川那子先生との共同研究です．

“自己組織化単分子膜を用いた極薄SiO₂/SiC界面特性の評価” 奥平 諒, 川那子 高暢, 細井 卓治