第66回応用物理学会春季学術講演会（2019年3月9日-12日）で、研究員のHaさんが、講演題目「Silicon-doped indium oxide thin-film transistor fabricated via spin-coating method」で口頭発表を、M1の堀さんが、講演題目「アモルファス酸化物薄膜半導体In-Si-O薄膜の相安定性」でポスター発表をしました。
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