スタッフ
職名 | 名前 | 連絡先 | Web |
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教授 | 藤原 明比古 | akihiko.fujiwara★kwansei.ac.jp | 個人ページ |
教授 | BIYANI, Manish | (藤原研究室共同研究者) | |
事務補佐員 | 伊川 美保 |
(★を@に置き換えてください)
学生
学年 | 名前 | 研究テーマ |
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博士1年 | CHAUDHARY, Arjoo | 溶液法による薄膜トランジスタの開発 |
国際修士2年 | RANAWAT,Himanshu | 溶液法による太陽電池の開発 |
修士2年 | 梅村 昂生 | 溶液法による太陽電池の開発 |
狩野 亮太朗 | 溶液法による薄膜トランジスタの開発 | |
中野 航希 | 高機能二次電池の開発 | |
修士1年 | 岡本 昂己 | 溶液法による薄膜トランジスタの開発 |
桂浦 知寿 | 高機能二次電池の開発 | |
高山 智行 | 溶液法による太陽電池の開発 | |
鳥庭 宏仁 | 溶液法による薄膜トランジスタの開発 | |
WU, Shengying | バイオセンサー | |
学部4年 | 大西 崇太 | TBD |
山本 馨 | TBD | |
清水 萌絵 | TBD | |
山野 広登 | TBD | |
山下 哲平 | TBD |
卒業生・修了生
年度 | 学位 | 名前 | 卒業論文・学位論文題目 |
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2024 | 技術補佐員:齊藤 愛子 | ||
修士 | 新山 晴樹 | ジチオビウレット系材料の電気化学特性における光照射効果 | |
白浜 聖太 | 溶液プロセスによるアモルファスIn-Si-O薄膜トランジスタの電気特性評価 | ||
田村 恵陸 | 溶液プロセスによるn-ZnO/p-Cu-O ヘテロ構造の構造最適化とダイオード特性 | ||
三木 裕真 | ジチオビウレット(DTB)系電池正極材料の構造と電気化学特性の評価 | ||
学士 | 岡本 昂己 | 薄膜トランジスタのためのSiO2と溶液プロセスによるZrO2絶縁膜の評価 | |
榎木 陸人 | ZnO/CuO、ZnO、CuOにおける電子輸送特性の光応答 | ||
鳥庭 宏仁 | 溶液プロセスによるZrO₂絶縁体層の作製と評価 | ||
高山 智行 | 溶液法で作製したZnO/CuOヘテロ構造における電子輸送特性のCuOプレカーサ―溶液濃度依存性 | ||
藤瀬 駿二 | ジチオビウレットの分子振動の環境効果 | ||
五嶋 諒太 | ジチオビウレット系正極材料を用いた電池の電気化学測定による劣化 | ||
桂浦 知寿 | ジチオビウレット系電池正極材料のラマン分光分析 | ||
2023 | PD | PALUPI, Endah Kinarya | Development of solution-processed oxide thin film transistor: electrical characterization of amorphous indium silicon oxide |
修士 | 西垣 智貴 | 光照射可能な二次電池の作製と評価 | |
学士 | 狩野 亮太朗 | CuO薄膜トランジスタ特性の作製条件依存性 | |
石黒 翔万 | タンデム型太陽電池に向けたCu2O薄膜の作製と評価 | ||
大瀬戸 一哉 | In-Si-O薄膜トランジスタ特性の作製条件依存性 | ||
梅村 昂生 | ZnO/CuOヘテロ構造のV2O5層導入効果 | ||
中野 航希 | ジチオビウレット系電池正極材料の組成と電気化学特性 | ||
2022 | 博士 | PALUPI, Endah Kinarya | Structural and electronic properties of solution-processed amorphous indium-silicon-oxide for high performance thin film transistors |
学士 | 新山 晴樹 | 分子量の異なるジチオビウレット系材料の電気化学的評価 | |
白浜 聖太 | 溶液プロセスによるIn-Si-O薄膜トランジスタの短時間作製 | ||
田村 恵陸 | スピンコート法によるZnO/CuO薄膜の作製と評価 | ||
三木 裕真 | ジチオビウレット系電池正極材料の分光分析 | ||
柴田 知輝 | 異なる基板上へのCuO薄膜トランジスタの作製と評価 | ||
2021 | 修士 | 仲田 慶介 | 溶液プロセスによるglass/ITO/n-ZnO/p-Cu-Oヘテロ構造の 作製及び電気特性評価 |
矢口 秀志 | 印刷塗布による薄膜トランジスタの作製 | ||
学士 | 大山 聡太 | 溶液法を用いたp型Cu-O薄膜トランジスタのデバイス作製 | |
平林 弘暉 | 溶液法によるCuO薄膜の作製と評価 | ||
水口 涼 | 酸化物半導体In-Si-O薄膜のアモルファス相安定性 | ||
西垣 智貴 | 光充電可能な二次電池の要素技術開発 | ||
2020 | 修士 | 鈴木 詠士 | 熱化学電池の設計・作製と特性評価 |
田嶋 昌弘 | 溶液プロセスによる多結晶ZnO薄膜トランジスタの作製と評価 | ||
学士 | 仲谷 樹一 ロイド | リチウムイオン電池における電極入れ替え構造での電気化学的評価 | |
手嶋 錬 | EGを付加したPEDOT:PSSの結晶化度と電気伝導 | ||
新田 大裕 | Cu-O薄膜トランジスタの作製と評価 | ||
今山 航 | XAFSによるアモルファス酸化物半導体In-Si-Oの構造解析 | ||
安藤 大晟 | In-Si-O薄膜トランジスタにおける酸素欠損低減とデバイス特性 向上への効果 |
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今北 克樹 | アモルファス酸化物半導体In-Si-O薄膜のアモルファス相の安定化 | ||
2019 | 修士 | AMINUDIN, Muhamad | Fabrication and Characterization of CuO/ZnO Thin Film Heterojunction Prepared by Spin-Coating Method |
学士 | 笠井 翔 | グラフェン/MoS2スーパーキャパシタの内部抵抗と特性の相関 | |
佐々木 拓 | リチウムイオン電池の正極シート作製条件とその特性 | ||
栗谷 涼香 | スピンコート法によるIn-Si-O薄膜の作製とSi固溶量による アモルファス構造の安定性 |
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仲田 慶介 | ITO付きガラス基板上CuO薄膜のXPSによる電子状態評価 | ||
矢口 秀志 | 電極の印刷塗布による薄膜トランジスタの作製 | ||
土定 祐介 | DTBポリマーを用いたリチウムイオン電池の光充電検証 | ||
富永 凌太 | Glass/ITO/ZnO/Cu-Oヘテロ接合の電気的特性 | ||
上田 侑生 | In-Si-O薄膜トランジスタのHMDS基板処理による移動度向上 | ||
2018 | 修士 | HOANG, Ha | Solution-processed In-Si-O thin-film transistor fabricated via spin coating method |
新宮 洋幸 | ジチオビウレット系材料の高効率光酸化と光充電池応用への検証 | ||
学士 | 佐々木 和貴 | In-Si-O薄膜トランジスタの酸素中アニール効果と移動度向上 | |
瀧川 望 | CuO/ZnO型太陽電池の作製と評価 | ||
田嶋 昌弘 | 溶液プロセスによるZnO薄膜トランジスタの作製 | ||
小網 周一 | ZrO2をゲート絶縁膜に用いた酸化物薄膜トランジスタの作製 | ||
鈴木 詠士 | ジチオビウレットポリマーの電気化学特性 | ||
2017 | 修士 | JAN, Esmael Hani | Fabrication and Characterization of Amorphous In-Si-O Thin Films via Solution Process |
学士 | 堀 龍輝 | アモルファス酸化物薄膜半導体In-Si-O薄膜の相安定性 | |
竹村 慎之介 | ジチオビウレット水溶液における電気化学特性のpH依存性 | ||
2016 | 学士 | 新宮 洋幸 | ジチオビウレットの高効率光酸化 |
中村 翼 | 放射光分析によるアモルファス酸化物半導体In-Si-Oの 3次元構造モデルの構築 |
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古賀 友彰 | 溶液プロセスにおけるIn2O3高品質薄膜の作製 | ||
清水 秀斗 | p-フェニレンジアミンの光酸化 | ||
2015 | 学士 | 高橋 憂希 | 酸化物半導体In-Si-OのXAFS測定による構造解析 |
上原 敬之 | ジチオビウレットの光酸化によるジスルフィド結合形成 |
滞在者
年度 | 期間 | 名前 | 目的(身分) |
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2023 | 11月 | NGUYEN, Duc Thanh | VJUインターンシップ |
TRAN, Quyet Tang | |||
2018 | 10月-11月 | LE, Thi Hien | VJUインターンシップ(交換留学生) |
2017 | 6月-7月 | BUI, Nguyen Quoc Trinh | HORN事業による共同研究(客員講師) |
10月-12月 | NGUYEN, Van Dung | VJUインターンシップ(理工学部研究員) | |
10-11月 | BUI, Nguyen Quoc Trinh | VJU協同教育研究(理工学部研究員) |
卒業生・修了生の進路
進学
関西学院大学 理工学研究科 (15)、奈良先端科学技術大学院大学(3)、京都大学 (1)、大阪大学 (1)、北陸先端科学技術大学院大学 (1)、早稲田大学 (1)、University of East Anglia, UK (1)
就職
大阪ガスリキッド株式会社、オートリブ株式会社、株式会社穴吹工務店、株式会社九電工、株式会社シュアーイノベーション、株式会社ニッセイコム、株式会社りそな銀行、株式会社EXEDY、京セラ株式会社、五洋建設株式会社 (2)、シャープ株式会社(2)、住友電工株式会社、東京海上日動火災保険株式会社、東芝メモリ株式会社、日清紡マイクロデバイス株式会社、ヌヴォトン テクノロジージャパン株式会社(2)、日立アプライアンス株式会社、富士通テン株式会社、富士電機株式会社(2)、プライムプラネットエナジー&ソリューションズ株式会社、マクセル株式会社、三菱電機株式会社(3)、National Nuclear Energy Agency (BATAN), Indonesia、NECソリューションイノベータ株式会社、NISSHA株式会社、TISソリューションリンク株式会社
(50音順・アルファベット順)