細井 卓治 (HOSOI Takuji)

 
職名：准教授
 
研究分野・キーワード：半導体，ゲート絶縁膜，MOSトランジスタ，界面物性，パワーデバイス
 
住所：〒669-1330　兵庫県三田市学園上ヶ原1　関西学院大学　VII号館2F(13)
 
メールアドレス：hosoi.takuji★kwansei.ac.jp（★を@に置き換えてください）
 
趣味：スポーツ観戦。好きなチームはチェルシー（プレミアリーグ），中日ドラゴンズ（日本プロ野球）
 

学歴：

2005年3月　学位取得 博士（工学）（大阪大学）

2004年3月　大阪大学 大学院工学研究科 電子情報エネルギー工学専攻 博士後期課程 単位取得退学

2001年3月　大阪大学 大学院工学研究科 物質・生命工学専攻 博士前期課程 修了

1999年3月　大阪大学 工学部 応用自然科学科 卒業

 
職歴：

2021年4月-現在　関西学院大学 工学部 電気電子応用工学課程 准教授

2020年4月-2021年3月　大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 助教

2007年4月-2020年3月　大阪大学 大学院工学研究科 生命先端工学専攻 助教

2004年4月-2007年3月　広島大学 ナノデバイス・システム研究センター（現 ナノバイオ融合科学研究所）研究員
 

主な研究テーマ：

ワイドバンドギャップ半導体デバイスの研究開発

MOS（Metal-Oxide-Semiconductor）デバイスの界面物性・信頼性に関する研究

エナジーハーベスティング／センシングデバイスの研究開発